本發明涉及發動機尾氣檢測系統技術領域，涉及一種提高文丘里管內壁減摩耐腐蝕性能的陶瓷層及制備方法。其中的陶瓷層生長在文丘里管基體表面，該陶瓷層的成分是氧化鋁和硅酸鋁，厚度為5?15μm。陶瓷層的制備方法包括以下過程：S1，文丘里管基體表面...

本實用新型涉及一種提高壓縮機滑片減摩耐磨性的薄膜，位于壓縮機滑片基體的弧面，所述的薄膜為四層結構，自所述壓縮機滑片基體起，第一層是金屬單質薄膜結合層，第二層是金屬氮化物薄膜過渡層，第三層是金屬碳化物薄膜過渡層，第四層為類石墨碳膜層。具有...

本發明涉及一種提高壓縮機滑片減摩耐磨性的薄膜，位于壓縮機滑片基體的弧面，所述的薄膜為四層結構，自所述壓縮機滑片基體起，第一層是金屬單質薄膜結合層，第二層是金屬氮化物薄膜過渡層，第三層是金屬碳化物薄膜過渡層，第四層為類石墨碳膜層。具有高硬...

本實用新型公開了一種計量閥的掛具，包括掛架和若干承載盒，所述若干承載盒均設置在所述掛架上，承載盒上設有通孔；所述掛架包括底部托盤、頂部托盤和固連桿，底部托盤和頂部托盤通過固連桿固定在一起；底部托盤上設有定位孔，頂部托盤上設有定位槽，底部...

本實用新型公開了一種用于微弧氧化的掛具，括第一支架和第二支架，第一支架與第二支架之間設置有多個掛架，每個掛架的兩個相對的側面上均設置有多個掛鉤，掛鉤包括鉤體和連接體，鉤體與連接體連接，連接體與掛架連接，連接體的表面覆蓋有橡膠層。本實用新...

本實用新型公開了一種磁控濺射反應氣氛自反饋控制系統，由磁控濺射裝置和反饋控制裝置組成，磁控濺射裝置包括反應氣體存儲裝置和真空室，反應氣體存儲裝置通過導氣管和真空室連通，真空室內設有磁電管，磁電管上設有放電等離子體；反饋控制裝置由光探頭、...

本實用新型公開了一種控制閥套掛具，一種控制閥套掛具，包括轉軸、托架和套體裝置，托架通過定位孔套設在轉軸上，托架包括底板和側支撐板，底板設置在側支撐板的底端，并與側支撐板焊接連接，套體裝置活動設置在側支撐板上。本實用新型通過轉軸、托架和套...

本實用新型公開了一種用于滾輪銷鍍層的掛具，包括轉盤和銷體固定件，轉盤上設置有圓孔，銷體固定件通過固定件卡座設置在圓孔上，銷體固定件包括齒輪和管件，齒輪設置在管件一端的外側壁上，管件另一端的外側壁上設置有卡位槽，卡位槽上設置有卡件，管件內...

本實用新型公開了一種柱塞掛具，包括第一轉盤、第二轉盤和柱塞固定管，第一轉盤與第二轉盤通過螺栓組件連接，第一轉盤上設置有多個大圓孔，第二轉盤上設置有多個小圓槽，大圓孔與小圓槽一一對應設置，相對應的大圓孔與小圓槽的中軸線重合，柱塞固定管包括...

本實用新型公開了一種滾輪銷掛具，包括轉盤和銷體固定件，銷體固定件隨著轉盤的轉動而旋轉，圓孔設置在轉盤上，轉盤上還設置有安裝孔和異形孔，安裝孔和異形孔之間設置有定位槽，銷體固定件包括齒輪和圓柱體，圓柱體內設置有磁鐵塊，磁鐵塊的上方設置有圓...

本實用新型公開了一種油壓柱塞的掛具，包括第一轉盤、第二轉盤和柱塞固定管，第一轉盤和第二轉盤通過連接件連接，第一轉盤上設置有大圓孔，第二轉盤上設置有小圓槽，小圓槽與大圓孔對應設置，柱塞固定管穿過大圓孔固定在小圓槽內。本實用新型通過第一轉盤...

本實用新型公開了一種微型鉆頭掛具，包括第一轉盤、第二轉盤、旋轉軸、小軸和多個微鉆固定裝置，第一轉盤與第二轉盤均套設于旋轉軸上，微鉆固定裝置設置于第一轉盤與第二轉盤之間，且套設于小軸上，小軸穿過第一轉盤的軸孔與第二轉盤連接，旋轉軸的底部設...

本實用新型公開了一種連桿掛具，包括環狀體、端蓋和掛管，端蓋設置在環狀體的一端，環狀體的側壁上設置有至少四個圓孔，每個圓孔上均安裝有掛管，每個掛管上均設置有鎖口，鎖口上設置有鎖環。本實用新型通過在環狀體上設置掛管，并通過鎖環將連桿固定在掛...

本實用新型公開了一種鉆頭清洗裝置，包括架體和鉆頭置放架，鉆頭置放架設置在架體的底部，鉆頭置放架包括第一層網架、第二層網架和第三層網架，第一層網架設置在第二層網架的正上方，第三層網架設置在第二層網架的正下方，第一層網架、第二層網架與第三層...

本發明公開了一種磁控濺射反應氣氛自反饋控制系統及其使用方法，由磁控濺射裝置和反饋控制裝置組成，磁控濺射裝置包括反應氣體存儲裝置和真空室，反應氣體存儲裝置通過導氣管和真空室連通，真空室內設有磁電管，磁電管上設有放電等離子體；反饋控制裝置由...

本發明公開了一種含鎢自潤滑刀具鍍層制備方法，包括下述步驟：S100：預處理，去除合金材料上的污染物，使合金材料表面清潔、干燥；S200：上掛架和抽真空；S300：離子清洗；S400：沉積鎢金屬打底；S500：沉積鎢/碳過渡層：S600：...

本實用新型公開了一種用于真空離子鍍膜機的星形撥動齒輪托架，包括零件支架(1)、星形撥動齒輪架(2)、壓盤(3)、定位托盤(4)和緊固件(5)，緊固件(5)內設有定位托盤(4)，定位托盤(4)的上方設有壓盤(3)，星形撥動齒輪架(2)設于...

本實用新型公開了一種濺射離子鍍工件懸掛網架，包括支撐桿(1)、套管(2)、定位盤(3)和懸掛網架(4)，定位盤(3)與懸掛網架(4)通過緊固螺栓連接，支撐桿(1)上設有懸掛網架(4)，支撐桿(1)外側設有套管(2)，套管(2)位于每兩個...

本實用新型公開了一種非平衡閉合場磁控濺射離子鍍設備，包括真空腔（1）和控制柜（3），真空腔（1）下方設有真空控制柜（2），控制柜（3）上設有手動操作界面（4）和全自動操作界面（5），真空腔（1）上設有側開式爐門（18），真空控制柜（2）...

本實用新型公開了一種工件離子鍍預處理設備，包括依次連接的除蠟槽(1)、A除油槽(2)、B除油槽(3)、漂洗槽(4)、A潤洗槽(5)、B潤洗槽(6)、脫水槽(7)和脫甲醇槽(8)，他們的底部均通過連接管(9)與排污管(10)連接。本實用新...