一種基板修補(bǔ)裝置，能夠省略工作部側(cè)罐的更換作業(yè)，且易于進(jìn)行用于修補(bǔ)用基板的修補(bǔ)處理的處理用氣體的供給。工作部(3)具備：小型氣體罐(5)，儲(chǔ)存處理用氣體并向激光CVD處理部(4)供給處理用氣體；以及工作部側(cè)接頭(6)，能夠向小型氣體罐(...

一種基板修補(bǔ)裝置，能夠省略工作部側(cè)罐的更換作業(yè)，且易于進(jìn)行用于修補(bǔ)用基板的修補(bǔ)處理的處理用氣體的供給。工作部(3)具備：小型氣體罐(5)，儲(chǔ)存處理用氣體并向激光CVD處理部(4)供給處理用氣體；以及工作部側(cè)接頭(6)，能夠向小型氣體罐(...

本發(fā)明進(jìn)行如下工序：在能進(jìn)行激光加工的樹脂制的膜(4)的表里任意一面形成樹脂制的支撐層(2)的工序，其中，該支撐層(2)包括與上述膜(4)不同的樹脂材料，吸收波長比可見光短的激光(L1)；從與上述膜(4)的形成有上述支撐層(2)的面相反...

本發(fā)明提供檢查裝置。在鉛垂方向上支承光掩模的檢查裝置中，在平臺(tái)的下方設(shè)置除振臺(tái)的同時(shí)，還能夠降低裝置的重心位置。在平臺(tái)(10)的下表面(10a)的四個(gè)角分別形成有大致立方體形狀的凹部(10b)。凹部(10b)的底面分別由高度高于凹部的深...

本發(fā)明提供偏振光照射裝置以及偏振光照射方法。能夠使偏振光照射裝置小型化，尤其能夠縮短長邊方向的長度。供對(duì)象物載置的工作臺(tái)、照射沿著與對(duì)象物的掃描方向大致正交的方向的大致帶狀的偏振光的偏振光照射部、以及測定從偏振光照射部照射出的光的特性的...

本發(fā)明提供光照射裝置，能夠以適當(dāng)?shù)钠毓饬繉?duì)能夠以低曝光量曝光的對(duì)象物進(jìn)行曝光。對(duì)從光源(11)照射出的光進(jìn)行導(dǎo)光的導(dǎo)光構(gòu)件(12)從被供給光源(11)的光的光入射部(11b)朝光射出部(11e)引導(dǎo)光，該光射出部(11e)呈大致帶狀地設(shè)...

本實(shí)用新型提供一種曝光裝置(1)，該曝光裝置(1)的光照射部(10)設(shè)置于載置曝光對(duì)象物(W)的工作臺(tái)(21)的上方，且設(shè)置為能夠裝卸棒狀的光源(11)，關(guān)于該光照射部(10)，在曝光時(shí)將光照射部(10)配置為光源(11)的長邊方向與曝...

本發(fā)明涉及一種激光退火方法，用激光(L)照射覆蓋于基板(5)上的非晶體硅薄膜(7)而形成多晶硅，其中，變更上述激光(L)照射到上述非晶體硅薄膜(7)上的照射區(qū)域來多重照射，產(chǎn)生多晶硅的晶粒直徑沿著上述激光(L)的照射區(qū)域的至少中心線(C...

包括：燈單元(60)；具有排列為p行、q列的矩陣狀的多個(gè)透鏡元件(65a)的蠅眼透鏡(65)；包括變更反射面的形狀的反射鏡變形單元(70)的平面鏡(68)；以及濾光器(90)，其具有：排列為p?2～p+2行、q?2～q+2列的矩陣狀，并...

本發(fā)明提供一種薄膜晶體管基板、顯示面板以及激光退火方法。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)提高激光退火的吞吐量，并且通過向TFT通道寬度內(nèi)以高精度照射激光圖案而進(jìn)行激光退火，從而獲得電子遷移率較高，并且具有高電位保持特性，低功耗的TFT基板。本發(fā)明的薄膜晶體管...

能夠防止因熱膨脹引起的不良情況。彈性構(gòu)件抵接于板狀的偏振片的第一側(cè)面，該板狀的偏振片在俯視下呈大致矩形形狀，且對(duì)從光源射出的光進(jìn)行偏振。彈性構(gòu)件將偏振片的與第一側(cè)面對(duì)置的側(cè)面朝向保持構(gòu)件的壁進(jìn)行施力。

本發(fā)明提供一種掃描曝光裝置。為了改善掃描曝光裝置的生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間并提高吞吐量，在進(jìn)行光源的高照度化和掃描速度的高速化時(shí)，防止在基板的端部附近的曝光不均。掃描曝光裝置(1)具備：載物臺(tái)(2)，在與載物臺(tái)表面(2A)之間設(shè)置間隙(2S)而支撐...

本發(fā)明的玻璃基板的激光加工裝置通過設(shè)成環(huán)狀的柱面透鏡使從激光光源射出的激光與玻璃基板的預(yù)定切斷線相對(duì)應(yīng)地聚光。激光相對(duì)于柱面透鏡的照射位置通過驅(qū)動(dòng)裝置而沿第1方向移動(dòng)。激光是在與其光軸正交的面內(nèi)與第1方向垂直的第2方向上的寬度（W5）比...

即使在防護(hù)膜框架等產(chǎn)生了形變的情況下，也無需作業(yè)者介入就能夠把持防護(hù)膜框架。由分別設(shè)置于防護(hù)膜把持構(gòu)件的計(jì)測部連續(xù)地取得防護(hù)膜把持構(gòu)件以及形成于防護(hù)膜組件(100)的側(cè)面的槽的高度，所述防護(hù)膜把持構(gòu)件在被以規(guī)定間隔保持為大致水平的兩根棒...

本發(fā)明提供一種投影曝光裝置。在一邊單向掃描微透鏡陣列一邊將掩模的掩模圖案投影曝光于基板上的投影曝光裝置中，即使在微透鏡中存在缺陷或不良時(shí)，也不會(huì)產(chǎn)生顯著的曝光不均。投影曝光裝置(1)具備：掃描曝光部(10)，使微透鏡陣列(2)沿著從基板...

本發(fā)明是在基板(5)上層疊地具備柵極電極(1)、源極電極(3)、漏極電極(4)以及半導(dǎo)體層(2)的薄膜晶體管，上述半導(dǎo)體層(2)是多晶硅薄膜(8)，為與上述源極電極(3)和上述漏極電極(4)分別對(duì)應(yīng)的區(qū)域的上述多晶硅薄膜(8)的晶體粒徑...

曝光裝置用反射鏡單元包括：對(duì)來自光源(61)的曝光的光進(jìn)行反射的平面鏡(68)；分別安裝在平面鏡(68)的背面并支承平面鏡(68)的多個(gè)支承部件(73)；以及分別驅(qū)動(dòng)多個(gè)支承部件(73)的多個(gè)驅(qū)動(dòng)器(74)。在曝光裝置用反射鏡單元中，還...

本發(fā)明涉及成膜掩膜及其制造方法。上述成膜掩膜通過具備掩膜板(1)和磁性金屬構(gòu)件的金屬掩膜(2)而構(gòu)成，其中，掩膜板(1)具備：樹脂制的薄片(5)，其與被成膜在基板上的薄膜圖案對(duì)應(yīng)地形成多個(gè)開口圖案(4)；以及磁性金屬薄膜(7)，其在上述...

本發(fā)明的成膜方法進(jìn)行：在使金屬掩模(6)貼緊到顯示面板(4)的顯示面(4a)的狀態(tài)下，一邊加熱金屬掩模(6)，一邊從金屬掩模(6)側(cè)對(duì)顯示面板(4)的顯示面(4a)涂敷液體的成膜材料(16)的步驟；以及加熱并燒制所涂敷的液體的成膜材料(...

本發(fā)明具備：掩模層(1)，其與在顯示面板(5)的顯示面上成膜形成的透明電極對(duì)應(yīng)而具有與該透明電極的形狀尺寸相同的開口圖案(4)；以及支撐層(2)，其具有橫穿開口圖案(4)而設(shè)置于掩模層(1)的一個(gè)面(1a)的多個(gè)支撐線(2a)，支撐層(...