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本發明公開的多膜層基板的制備方法包括：在襯底上形成第一膜層，并在第一膜層的對位區域中形成一組特定對位標識；在第一膜層上依次形成多層后續膜層和一頂層膜層。針對每一層后續膜層的構圖工藝：將掩膜板中的對位標識與特定對位標識對位，進行曝光，且在構圖...
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