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本發明涉及一種適合于X熒光多元素分析儀測量的密封膜片滲漏測量裝置及方法。該裝置采用雙層膜片對探測腔體內部空間進行密封保護，并在內膜片與外膜片之間用安裝有用絕緣圈間隔開的二塊銅板，利用二極管的反向截止和水的導電性，來判斷外銅板與內銅板之間是否...
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