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本發明涉及一種陷光結構氮化硅薄膜的制備方法及制備裝置，屬于陷光結構氮化硅薄膜技術領域。一種陷光結構氮化硅薄膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：清洗石英玻璃（1）；將石英玻璃與氮化硅靶材（3）上、下對應地固定在鍍膜設備內，所述鍍膜設備具有...
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