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一種等離子處理裝置，包括真空腔體和等離子體發(fā)生組件，所述等離子體發(fā)生組件包括：等離子體發(fā)生腔，開設于所述真空腔體腔壁；電極模組，設置于所述等離子體發(fā)生腔內，所述電極模組的放電端正對所述真空腔體內部，所述電極模組由多個平行矩陣排列的管狀電極組...該專利屬于珠海寶豐堂電子科技有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過珠海寶豐堂電子科技有限公司授權不得商用。