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本發明公開了一種EUV光源污染物收集裝置，應用于X射線或者EUV發光裝置，其中，所述EUV發光裝置包括：一激光源，一真空腔，一集光鏡，一噴嘴，其中，EUV光源污染物收集裝置包括：一收集罩，收集罩位于真空腔內，用于在激光束打擊靶材后收集靶材碎...
該專利屬于中國科學院微電子研究所所有，僅供學習研究參考，未經過中國科學院微電子研究所授權不得商用。

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