溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。
本發明揭露了一種半導體處理裝置，其包括微腔室，所述微腔室包括可在一打開位置和關閉位置之間移動的形成上工作表面的上腔室部和形成下工作表面的下腔室部，當處于關閉位置時，半導體晶圓安裝于所述上工作表面和所述下工作表面之間形成的空腔內，且與所述上、...該專利屬于無錫華瑛微電子技術有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過無錫華瑛微電子技術有限公司授權不得商用。
溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。
本發明揭露了一種半導體處理裝置，其包括微腔室，所述微腔室包括可在一打開位置和關閉位置之間移動的形成上工作表面的上腔室部和形成下工作表面的下腔室部，當處于關閉位置時，半導體晶圓安裝于所述上工作表面和所述下工作表面之間形成的空腔內，且與所述上、...