溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。

本發明提供了一種提高光掩模板關鍵尺寸均一性的方法，包括：第一步驟，用于執行初始掩模板版圖設計；第二步驟，用于對設計出來的初始掩模板版圖進行區塊劃分；第三步驟，用于計算初始掩模板版圖各區塊的曝光圖形密度；第四步驟，用于根據各區塊周邊區域內的曝...
該專利屬于上海華力微電子有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過上海華力微電子有限公司授權不得商用。

詳細技術文檔下載地址

溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。