溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。

本發明提供掩模對準光學系統，其利用透射照明方式而性能良好，且能有效應用掩模。掩模對準光學系統在將蒸鍍材料蒸鍍到基板上的真空蒸鍍室（1）中，進行基板（6）與金屬掩模（102）的對準，并且具備固定框架（101）和載物臺（201），固定框架（10...
該專利屬于株式會社日立高新技術所有，僅供學習研究參考，未經過株式會社日立高新技術授權不得商用。

詳細技術文檔下載地址

溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。