掩模對準光學系統技術方案

本發明專利技術提供掩模對準光學系統，其利用透射照明方式而性能良好，且能有效應用掩模。掩模對準光學系統在將蒸鍍材料蒸鍍到基板上的真空蒸鍍室（1）中，進行基板（6）與金屬掩模（102）的對準，并且具備固定框架（101）和載物臺（201），固定框架（101）形成在金屬掩模的周圍且在四角上形成有“L”字狀的導光路，載物臺（201）在表面上搭載基板，且在其四角上形成有“L”字狀的導光路，利用由導入到形成在固定框架的一部分上的導光路（103）及形成在載物臺的一部分上的導光路內的光形成的對準標記的透射像，進行與金屬掩模的對準。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及為了制造有機EL設備而用于相對于基板配置金屬掩模的掩模對準，尤其涉及利用了掩模的框架的一部分的掩模對準光學系統。
技術介紹
作為制造有機EL (電致發光)設備的有力的方法有真空蒸鍍法。在該真空蒸鍍中，需要將基板和掩模對準。另外，近年來，對于有機EL設備，其處理基板的大型化的風浪不斷涌來，例如，G6世代的基板尺寸是1500mmX 1800mm,隨之，在基板尺寸的大型化的同時，當然掩模也大型化，其尺寸甚至達到了 2000mmX2000mm左右。尤其是在使用鋼制的掩模的有機EL設備中，其重量還達到了 300kg，以往，將基板及掩模水平放置后使其對位。再者，該現有技術例如已經在下述專利文獻I中公開。專利文獻1:日本特開2006 - 302896號公報在有機EL蒸鍍裝置中，用金屬掩模將發光材料蒸鍍在基板上，此時，隨著設備的大型化，需要高精度的對準系統。另外，有機EL蒸鍍設備在使用金屬掩模和作為目標的基板上的標記進行對準之后，在將該金屬掩模和基板緊貼的狀態下進行蒸鍍。此時的配置按以下順序進行，首先配置蒸鍍源，其次配置掩模，之后配置基板，可是此時，尤其是由于蒸鍍源的特性，不能在該蒸鍍源和掩模之間設置固定機構。另外，由于上述的程序全部都在真空室內的高真空中進行，因此不可能配置復雜的機構。 而且，在以往的蒸鍍裝置的對準系統中存在以下的問題點。1.圖案效率以往，由于在圖案的蒸鍍區域內配置有對準標記(圖案)，因此作為用于制造產品的區域的產品圖案區域縮小，進而存在該對準標記(圖案)被蒸鍍的問題。2.透射照明在用于對準的照明方面，有所謂的“反射方式”和“透射方式”，一般來說透射方式更好，但由于上述蒸鍍源和掩模之間的制約，不能配置光學系統，因此多采用反射方式。再者，作為裝置，無論是反射方式還是透射方式，根據狀況分別使用是最理想的。3.反射照明如果將對準標記配置在蒸鍍區域之外，則掩模框架和該掩模重疊，因此產生在掩模框架的背面反射中很難識別該對準標記的問題點。
技術實現思路
于是，本專利技術是鑒于上述現有技術的問題點而做成的，更具體地說，其目的尤其在于提供在采用透射照明方式的同時，能夠有效應用掩模的掩模對準光學系統。為了達到上述目的，根據本專利技術，首先提供一種掩模對準光學系統，在將蒸鍍材料蒸鍍到基板上的真空蒸鍍室中，進行該基板與由金屬薄膜構成的金屬掩模的對準，具備固定框架和載物臺，所述固定框架形成在所述金屬掩模的周圍，且在其四角上形成有“L”字狀的導光路，所述載物臺在表面上搭載所述基板，且在其四角上在與所述固定框架的導光路相對應的位置上形成有“L”字狀的導光路，利用設在所述金屬掩模的一部分上的金屬掩模標記和設在所述基板的一部分上的對準標記的由透射照明形成的像，進行與金屬掩模的對準，所述透射照明是由導入到形成在所述固定框架上的導光路及形成在所述載物臺上的導光路內的光形成的。進而，在本專利技術中，在以上記載的掩模對準光學系統中，最好形成在所述固定框架的一部分上的“L”字狀的導光路的一端在所述固定框架的上邊或下邊設置開口，形成在所述載物臺的一部分上的“L”字狀的導光路的一端在所述載物臺的上邊或下邊設置開口。而且，最好在所述真空蒸鍍室的外部設有:向所述導光路入射光的光源；以及用于拍攝由從所述導光路射出的所述對準標記的透射照明形成的像的攝像機部。本專利技術具有以下有益效果。根據上述本專利技術，能夠得到如下實用性良好的技術效果，即，能夠提供利用透射照明方式而性能良好，且能夠有效應用掩模的掩模對準光學系統。附圖說明圖1是表示采用本專利技術的掩模對準光學系統的有機EL設備制造裝置的內部結構的一例的立體圖。圖2是表示構成上述裝置的對準部的掩模部的詳細結構的一例的局部放大立體圖。圖3是表示構成上述裝置的對準`部的掩模部的詳細結構的一例的局部放大立體圖。圖4是用于說明包括上述掩模部和載物臺部的掩模對準系統的詳細情況的局部放大剖視圖。圖5是表示用攝像元件同時拍攝形成在基板的表面上的對準標記和金屬掩模的畫面的一例的圖。圖中:I 一真空蒸鍍室，8 —對準部，100 一掩模部，101 一固定框架，102 一金屬掩模，103、202 —貫通孔，104、203 —端面，106、204 —反射鏡，200 —載物臺部，201 —載物臺，6 —基板，61 —對準標記，301、303 —窗部，302 —光源，304 —攝像機。具體實施例方式以下，參照附圖詳細地說明本專利技術的實施方式。再者，在以下的詳細說明中，首先，對于采用本專利技術的有機EL設備制造裝置，尤其是其有機EL成膜裝置說明其概要，并且詳細地說明該裝置內的成為本專利技術的掩模對準光學系統。構成有機EL設備制造裝置的有機EL成膜裝置，作為在真空環境中蒸鍍發光材料從而在基板上形成EL層的真空蒸鍍室起作用，以下，關于該真空蒸鍍室，與輸送室一起表示在所附的圖1中。圖中，輸送室內的輸送機器人5具有三連桿結構的臂51，該臂51能夠向上下移動整體(參照圖1的箭頭59)，并能夠向左右旋轉，在其前端具有基板輸送用的梳齒狀手部58。另一方面，真空蒸鍍室I大致包括:蒸鍍部71、76，使發光材料升華后蒸鍍在基板6上；對準部8，進行與蔭罩之間的對位，并且在例如玻璃板等基板6上的所需部分蒸鍍發光材料；以及交接部91、93，在與上述輸送機器人5之間進行基板6的交接，并使該基板6向蒸鍍部71、76移動。對準部8和交接部91、93分成右側R線和左側L線這兩個系統而設置。S卩，掩模不僅僅在基板上形成發光材料層(EL層)后用電極夾住，還在陽極之上形成正孔注入層或輸送層，進而在陰極之上用各種材料以薄膜的形式形成多層電子注入層或輸送層等，或者清洗基板，一般來說，大致包括搬入處理對象的基板6的裝入組、處理上述基板的多個組、以及在各組之間或者組和裝入組或下一個工序(密封工序)之間設置的多個交接室等。再者，在本實施方式中，將基板的蒸鍍面作為上表面輸送基板，另一方面，在蒸鍍時，在將該基板立起的狀態下進行蒸鍍。并且，根據本專利技術的實施例，上述對準部8 (即，掩模對準光學系統)包括以下詳細敘述的掩模部100和載物臺部200。首先，在所附的圖2中表示了掩模部100的結構，如圖所示，具備固定框架101和金屬掩模102，其中，固定框架101例如利用金屬材料將外形形成為“口 ”字狀，金屬掩模102以向縱橫方向拉伸(賦予張力)的狀態安裝在該固定框架的一面(在圖例中是背面)上，并且由金屬薄膜形成，且板厚為4(Γ 00μπι。并且，在該固定框架101的一部分，更具體地說，在本例中是在“ 口 ”字狀的周邊四角上，分別形成有形成導光路的貫通孔103。再者，如所附的圖4所示，該成為導光路的貫通孔103的詳細情況如下，從構成固定框架101的上邊的端面104沿著上述金屬掩模102的面向垂直方向延伸，并且從形成該框架的內周面的傾斜面(例如，傾斜角度=45度)105向相對于上述金屬掩模102的面垂直的方向形成為所謂的“L”字狀。并且，在該傾斜面105上(S卩，在這些貫通孔103的底部上)，以傾斜角度=45度安裝有反 射鏡106。S卩，由貫通孔103及反射鏡106形成“L”字狀的導光路。再者，在圖2及圖3中，標號107表不在上述金屬掩模102上形成為孔狀的金屬掩模標記。另一方面，如所附的圖4所示，載物臺部20本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種掩模對準光學系統，在將蒸鍍材料蒸鍍到基板上的真空蒸鍍室中，進行該基板與由金屬薄膜構成的金屬掩模的對準，其特征在于，具備固定框架和載物臺，所述固定框架形成在所述金屬掩模的周圍，且在其四角上形成有“L”字狀的導光路，所述載物臺在表面上搭載所述基板，且在其四角上在與所述固定框架的導光路相對應的位置上形成有“L”字狀的導光路，利用設在所述金屬掩模的一部分上的金屬掩模標記和設在所述基板的一部分上的對準標記的由透射照明形成的像，進行與金屬掩模的對準，所述透射照明是由導入到形成在所述固定框架上的導光路及形成在所述載物臺上的導光路內的光形成的。

【技術特征摘要】
2011.10.28 JP 2011-2368561.一種掩模對準光學系統，在將蒸鍍材料蒸鍍到基板上的真空蒸鍍室中，進行該基板與由金屬薄膜構成的金屬掩模的對準，其特征在于， 具備固定框架和載物臺， 所述固定框架形成在所述金屬掩模的周圍，且在其四角上形成有“L”字狀的導光路， 所述載物臺在表面上搭載所述基板，且在其四角上在與所述固定框架的導光路相對應的位置上形成有“L”字狀的導光路， 利用設在所述金屬掩模的一部分上的金屬掩模標記和設在所述基板的一部分上的對準標記的由透射照明形...

【專利技術屬性】
技術研發人員：松本房重，龜山大樹，鄭載勛，李相雨，
申請(專利權)人：株式會社日立高新技術，
類型：發明
國別省市：