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一種泵送元件包括：葉片（20），所述葉片（20）具有與轂鄰近的第一區段和與尖端鄰近的第二區段；基于選定的入射角分布的氣蝕區高度分布；以及基于結構性要求的選定的葉片厚度分布。所得到的氣蝕區高度分布與所述第一區段和所述第二區段處的葉片厚度匹配，...該專利屬于普拉特及惠特尼火箭達因公司所有，僅供學習研究參考，未經過普拉特及惠特尼火箭達因公司授權不得商用。
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一種泵送元件包括：葉片（20），所述葉片（20）具有與轂鄰近的第一區段和與尖端鄰近的第二區段；基于選定的入射角分布的氣蝕區高度分布；以及基于結構性要求的選定的葉片厚度分布。所得到的氣蝕區高度分布與所述第一區段和所述第二區段處的葉片厚度匹配，...