泵送元件設計制造技術

一種泵送元件包括：葉片（20），所述葉片（20）具有與轂鄰近的第一區段和與尖端鄰近的第二區段；基于選定的入射角分布的氣蝕區高度分布；以及基于結構性要求的選定的葉片厚度分布。所得到的氣蝕區高度分布與所述第一區段和所述第二區段處的葉片厚度匹配，并且大于沿著所述葉片的葉片厚度。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本公開涉及泵送元件，并且更具體地涉及泵送元件的設計方法。
技術介紹
流體泵包括軸流泵和離心流泵。過去的設計做法通常實現了所要求的抽吸性能，但具有一些氣蝕引起的不穩定性。典型的已有設計做法(例如增加的尖端間隙、殼體處理和尖端渦流抑制)在最小化氣蝕引起的不穩定性方面成果有限，但是卻常常導致抽吸性能容量降低。附圖說明本領域技術人員從所公開的非限制性實施例的以下詳細描述將會明白各種特征。詳細描述的附圖可簡要介紹如下: 圖1是葉片前緣的發展視 圖2是泵送元件設計喉部厚度和氣蝕區高度的相關技術的圖形表示；并且 圖3是根據本申請一個非限制性實施例的泵送元件前緣設計方法的圖形表示。具體實施例方式參照圖1，示出了泵 送元件、導流輪、葉輪的葉片20的示意圖。當靜態壓力減小到低于流體蒸氣壓力的值時，在泵元件上出現氣蝕。在流體力學中已知會出現多種類型的氣蝕。 等式I所示的流量系數O限定了子午速度Cm、葉片速度U、葉片角0以及入射角a之間的關系

【技術保護點】

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】1.一種泵送元件，包括: 葉片，所述葉片具有與轂鄰近的第一區段、與尖端鄰近的第二區段； 選定的入射角分布； 基于結構性要求的選定的葉片厚度分布；和...

【專利技術屬性】
技術研發人員：KJ倫德，SY孟，
申請(專利權)人：普拉特及惠特尼火箭達因公司，
類型：
國別省市：