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一種超低方阻金屬化鋁膜，涉及電容器技術(shù)領(lǐng)域，由基膜和金屬化鋁膜層組成，所述的金屬化鋁膜層的方阻為0.25~0.65Ω/□，而常規(guī)金屬化鋁膜層的方阻為2~4Ω/□，即金屬化鋁膜層的厚度是常規(guī)金屬化鋁膜的7倍左右，金屬化鋁膜層大幅度增厚，意味著...該專(zhuān)利屬于銅陵市東市電子有限責(zé)任公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)銅陵市東市電子有限責(zé)任公司授權(quán)不得商用。