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本發明公開了一種平面碳膜電極的制備方法，涉及電化學微納米加工技術領域。具體步驟是：將光刻膠均勻地旋涂在導電基體上，隨后在具有一定壓力的惰性氣體保護下，通過程序升溫使光刻膠依次發生軟化和碳化，并最終形成導電碳膜；最后采用樹脂封裝制成平面碳膜電...
該專利屬于廈門大學;大連理工大學所有，僅供學習研究參考，未經過廈門大學;大連理工大學授權不得商用。

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