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本實用新型公開一種多級浮動渦旋真空泵,包括若干真空泵,每一真空泵包括:一固定渦卷基座;一位于基座上的固定渦卷;以及一與固定渦卷做繞動運動的繞動渦卷;其中,位于固定渦卷外圈渦卷元件的端板上開設進氣口,位于固定渦卷內圈渦卷元件的端板上開設排氣口...該專利屬于思科渦旋科技(杭州)有限公司所有,僅供學習研究參考,未經過思科渦旋科技(杭州)有限公司授權不得商用。
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本實用新型公開一種多級浮動渦旋真空泵,包括若干真空泵,每一真空泵包括:一固定渦卷基座;一位于基座上的固定渦卷;以及一與固定渦卷做繞動運動的繞動渦卷;其中,位于固定渦卷外圈渦卷元件的端板上開設進氣口,位于固定渦卷內圈渦卷元件的端板上開設排氣口...