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本發明提供一種場發射陰極的處理方法，包括：通過磁控濺射儀上預留的電極接口引出濺射室;樣品作為磁控濺射的基片，用直流濺射方式在其表面上濺射不同厚度的超薄納米純鎳膜。...
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