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本發(fā)明實(shí)施例提供了一種掩膜板及其制作方法，該掩膜板，應(yīng)用于大尺寸接近式曝光機(jī)光學(xué)系統(tǒng)，該掩膜板包括多個(gè)區(qū)域，每個(gè)區(qū)域?yàn)橐匝谀ぐ宓闹行狞c(diǎn)為圓心且按照設(shè)定規(guī)則形成的區(qū)域，并且離掩膜板的中心點(diǎn)越近的區(qū)域，其對(duì)應(yīng)的透過率越高；離掩膜板的中心點(diǎn)越遠(yuǎn)的...該專利屬于京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司授權(quán)不得商用。