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本發明公開了一種等離子體增強化學氣相沉積電極板裝置、沉積方法及沉積裝置。本發明的等離子體增強化學氣相沉積電極板裝置包括用于與要進行等離子體增強化學氣相沉積的基板相接觸的等離子體增強化學氣相沉積電極板，以及能在所述基板上產生與基板平行的電場的...該專利屬于京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司授權不得商用。