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本發明涉及測量技術領域，具體涉及一種鍍層厚度測量技術。厚薄兩用鍍層厚度測量儀，包括一設備支架，至少一固定在設備支架上的光檢測裝置，光檢測裝置連接一微型處理器系統，光檢測裝置設有一光源，光源采用紅外激光器；光檢測裝置設有一光敏元件，光敏元件采...
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