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所提供的是用于處理襯底的裝置。該襯底處理裝置包括：支撐襯底的支撐板，該支撐板中具有多個孔；供給線路，其通過孔向襯底下表面供應氣體；以及安裝在供給線路中以電離通過供給線路供應的氣體的離子發生器。...
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