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本發明公開了一種光刻設備(1)，包括：投影系統(7)，其配置成將所述圖案化的輻射束(9)投影到襯底的目標部分上；真空室(8)，在使用期間所述圖案化的輻射束(9)被投影通過真空室；和凈化系統(13、16、17)，其配置成在所述室(8)內提供凈...
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