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本實用新型涉及等離子體耐蝕性構件。本實用新型的課題是抑制在升溫至700℃后的薄膜與基材的界面產生裂紋。作為解決方案，本實用新型的等離子體耐蝕性構件是在氮化硅燒結體、氮化鋁燒結體、氧化鋁燒結體或碳化硅燒結體的基材的表面上形成有釔化合物或尖晶石...
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