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本發明公開了一種防斷電保護的硅片清洗機，包括：工藝腔室和位于工藝腔室底部的N2管路，所述N2管路包括：常開N2管路和常閉N2管路，所述常開N2管路與常閉N2管路并聯設置，所述常開N2管路上設有常開波紋密封閥，所述常閉N2管路上設有常閉波紋密...該專利屬于北京七星華創電子股份有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過北京七星華創電子股份有限公司授權不得商用。
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