本發明專利技術公開了一種防斷電保護的硅片清洗機，包括：工藝腔室和位于工藝腔室底部的N2管路，所述N2管路包括：常開N2管路和常閉N2管路，所述常開N2管路與常閉N2管路并聯設置，所述常開N2管路上設有常開波紋密封閥，所述常閉N2管路上設有常閉波紋密封閥。本發明專利技術提供的防斷電保護的硅片清洗機，采用雙通道互鎖并聯設計，當設備主電源發生斷電時候，兩個互鎖的波紋密封閥通過相反控制動作，使N2通路不會因為斷電而發生中斷，保證清洗機環境清潔。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及半導體清洗
，特別涉及一種防斷電保護的硅片清洗機。
技術介紹
在半導體行業，需要對硅片后道エ藝銅互連階段后，多孔性介質材料進行超精細清洗，Chuck (卡盤)夾持的硅片高速旋轉進行清洗時在エ藝腔室內完成，清洗包括藥液漂洗、超純水沖洗和凡甩干等エ藝。在清洗的過程為了實現對化學藥液的回收利用，エ藝腔室采用分層設計，Up/down單元帶動Chuck至各エ藝位置，由伺服電機帶動Chuck做高速旋轉運動，通過離心カ將化學藥液甩到專用的回收槽里面。為了防止化學液向下發生滴漏，需要在エ藝腔室底背部向上吹N2，從而在硅片底部形成ー層自下而上的氣體保護膜。一般情況下，如果設備突然發生斷電，化學液將會殘留在硅片上面，此時如果硅片底部N2保護氣發生中斷，液體將可能通過硅片邊緣滴漏到エ藝腔室里面，嚴重污染清洗環境的清潔度。整個 設備如果采用UPS斷電保護，成本較高。
技術實現思路
(一)要解決的技術問題本專利技術要解決的技術問題是，針對現有技術的不足，提供一種防斷電保護的硅片清洗機，對N2管路進行雙通道設計，從而保證整個清洗過程N2通道始終處于暢通狀態。(ニ)技術方案本專利技術提供一種防斷電保護的硅片清洗機，包括エ藝腔室和位于エ藝腔室底部的N2管路，所述N2管路包括常開N2管路和常閉N2管路，所述常開N2管路與常閉N2管路并聯設置，所述常開N2管路上設有常開波紋密封閥，所述常閉N2管路上設有常閉波紋密封閥。其中，當所述常開波紋密封閥打開時，所述閉波紋密封閥關閉；當所述常開波紋密封閥關閉時，所述閉波紋密封閥打開。其中，所述常開波紋密封閥和常閉波紋密封閥通過電磁閥島氣動控制。其中，防斷電保護的硅片清洗機還包括位于常閉波紋密封閥前端管路上的壓カ針閥。其中，防斷電保護的硅片清洗機還包括位于常閉波紋密封閥后端管路上的單向閥。其中，防斷電保護的硅片清洗機還包括位于常開波紋密封閥后端管路上的超聲波流量計和過濾器，所述超聲波流量計位于所述過濾器的前端管路上。(三)有益效果本專利技術提供的防斷電保護的硅片清洗機，采用雙通道互鎖并聯設計，當設備主電源發生斷電時候，兩個互鎖的波紋密封閥通過相反控制動作，使N2通路不會因為斷電而發生中斷，保證清洗機環境清潔。附圖說明圖I為本專利技術防斷電保護的硅片清洗機管路結構示意圖；圖2為本專利技術防斷電保護的硅片清洗機的エ藝腔室結構示意圖。具體實施例方式下面結合附圖和實施例，對本專利技術的具體實施方式作進ー步詳細描述。以下實施例用于說明本專利技術，但不用來限制本專利技術的范圍。如圖I所示，本專利技術提供一種防斷電保護的硅片清洗機，包括エ藝腔室8和位于エ藝腔室底部的N2管路，所述N2管路包括常開N2管路9和常閉N2管路10，所述常開N2管路9與常閉N2管路10并聯設置，所述常開N2管路9上設有常開波紋密封閥4，所述常閉N2管路10上設有常閉波紋密封閥3。當所述常開波紋密封閥4打開時，所述閉波紋密封閥3關閉，當所述常開波紋密封閥4關閉時，所述閉波紋密封閥3打開。所述常開波紋密封閥4 和常閉波紋密封閥3通過電磁閥島氣動控制。防斷電保護的硅片清洗機還包括位于常閉波紋密封閥3前端管路上的壓カ針閥2、位于常閉波紋密封閥3后端管路上的單向閥7以及位于常開波紋密封閥4后端管路上的超聲波流量計5和過濾器6，所述超聲波流量計5位于所述過濾器6的前端管路上。工作原理設備啟動后，通過高清度數字壓カ開關1，將系統設定到所需要的氣體壓力，通過電磁閥島控制的干潔氣源(CDA)氣體對常開波紋密封閥4和常閉波紋密封閥3進行氣動控制，常開波紋密封閥4打開構成常開N2管路9 ;常閉波紋密封閥3打開構成常閉N2管路10，在常閉波紋密封閥3前端的管路上設置ー個可以手動調節的壓カ針閥2，設備啟動后手動打開壓カ針閥2，保證斷電時候N2能夠順利通過。所述常閉波紋密封閥3由開放切換到關閉狀態，常閉N2管路10斷開；常開波紋密封閥4則由關閉狀態切換到打開狀態，常開N2管路9保持暢通，N2經過超聲波流量計5和過濾器6，進入エ藝腔室8。如圖2所示，所述エ藝腔室內氣道采用變徑、流線型設計，在エ藝腔室8頂部硅片正下方邊緣地方開設有均勻間隔的斜圓孔，保證氣流有足夠的壓カ從斜孔噴出，在硅片底部形成一層自底向上流動的N2保護膜。以上實施方式僅用于說明本專利技術，而并非對本專利技術的限制，有關
的普通技術人員，在不脫離本專利技術的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有等同的技術方案也屬于本專利技術的范疇，本專利技術的專利保護范圍應由權利要求限定。權利要求1.一種防斷電保護的硅片清洗機，其特征在于，包括エ藝腔室和位于エ藝腔室底部的N2管路，所述N2管路包括常開N2管路和常閉N2管路，所述常開N2管路與常閉N2管路并聯設置，所述常開N2管路上設有常開波紋密封閥，所述常閉N2管路上設有常閉波紋密封閥。2.如權利要求I所述的硅片清洗機，其特征在干，當所述常開波紋密封閥打開時，所述閉波紋密封閥關閉；當所述常開波紋密封閥關閉時，所述閉波紋密封閥打開。3.如權利要求I或2所述的硅片清洗機，其特征在于，所述常開波紋密封閥和常閉波紋密封閥通過電磁閥島氣動控制。4.如權利要求I所述的硅片清洗機，其特征在干，防斷電保護的硅片清洗機還包括 位于常閉波紋密封閥前端管路上的壓カ針閥。5.如權利要求I所述的硅片清洗機，其特征在干，防斷電保護的硅片清洗機還包括 位于常閉波紋密封閥后端管路上的單向閥。6.如權利要求I所述的硅片清洗機，其特征在干，防斷電保護的硅片清洗機還包括位于常開波紋密封閥后端管路上的超聲波流量計和過濾器，所述超聲波流量計位于所述過濾器的前端管路上。全文摘要本專利技術公開了一種防斷電保護的硅片清洗機，包括工藝腔室和位于工藝腔室底部的N2管路，所述N2管路包括常開N2管路和常閉N2管路，所述常開N2管路與常閉N2管路并聯設置，所述常開N2管路上設有常開波紋密封閥，所述常閉N2管路上設有常閉波紋密封閥。本專利技術提供的防斷電保護的硅片清洗機，采用雙通道互鎖并聯設計，當設備主電源發生斷電時候，兩個互鎖的波紋密封閥通過相反控制動作，使N2通路不會因為斷電而發生中斷，保證清洗機環境清潔。文檔編號B08B3/00GK102861745SQ20121034835公開日2013年1月9日 申請日期2012年9月18日 優先權日2012年9月18日專利技術者張紹國, 何金群, 裴立坤, 吳儀, 王好肖 申請人:北京七星華創電子股份有限公司本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種防斷電保護的硅片清洗機，其特征在于，包括：工藝腔室和位于工藝腔室底部的N2管路，所述N2管路包括：常開N2管路和常閉N2管路，所述常開N2管路與常閉N2管路并聯設置，所述常開N2管路上設有常開波紋密封閥，所述常閉N2管路上設有常閉波紋密封閥。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：張紹國，何金群，裴立坤，吳儀，王好肖，
申請(專利權)人：北京七星華創電子股份有限公司，
類型：發明
國別省市：
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