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本發明提供了一種晶體硅制絨前的清洗劑及清洗方法，該清洗劑包括以下組分：0.1wt%~5wt%的氫氧化鈉；1wt%~8wt%的過氧化氫；余量為水。本發明將待處理的晶體硅置于上述清洗劑中，依次進行第一超聲處理和第二超聲處理，完成對晶體硅的清洗。...
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