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本實用新型公開了一種用于曝光工藝的掩膜板，包括透光襯底，透光襯底上具有至少一個圖案區域，至少一個圖案區域內具有半透光區和不透光區，半透光區與不透光區的寬度之和不小于曝光機的解析度，其中：不透光區的寬度小于曝光機的解析度，不透光區的至少一側為...該專利屬于北京京東方光電科技有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過北京京東方光電科技有限公司授權不得商用。
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