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本發明公開了一種成本更低、工藝更簡單的利用射頻磁控濺射技術制備摻氟氧化錫薄膜的方法，該方法包括如下步驟：a、將二氧化錫粉末和氟化物混合均勻，然后干燥；b、用步驟a干燥后的混合物制得粉末靶，然后安裝于濺射儀的射頻靶上；將基底材料進行清洗、干燥...
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