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本發明公開一種金屬蝕刻方法，包含下述步驟：對金屬膜進行蝕刻并獲取該金屬膜的蝕刻終點時間；將所述蝕刻終點時間乘以一固定比例而得到所述金屬膜的過蝕刻時間；對所述金屬膜繼續蝕刻所述過蝕刻時間，完成對所述金屬膜進行的蝕刻。還公開了一種金屬蝕刻控制方...該專利屬于深圳市華星光電技術有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過深圳市華星光電技術有限公司授權不得商用。
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