金屬蝕刻方法、金屬蝕刻控制方法及其裝置制造方法及圖紙

本發(fā)明專利技術(shù)公開(kāi)一種金屬蝕刻方法，包含下述步驟：對(duì)金屬膜進(jìn)行蝕刻并獲取該金屬膜的蝕刻終點(diǎn)時(shí)間；將所述蝕刻終點(diǎn)時(shí)間乘以一固定比例而得到所述金屬膜的過(guò)蝕刻時(shí)間；對(duì)所述金屬膜繼續(xù)蝕刻所述過(guò)蝕刻時(shí)間，完成對(duì)所述金屬膜進(jìn)行的蝕刻。還公開(kāi)了一種金屬蝕刻控制方法及其裝置。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：王靜文，賀成明，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：深圳市華星光電技術(shù)有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：