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離子轟擊裝置(1)具有真空腔室(2)、基材支撐部(11)、絲(3)、放電電源(22)、絲加熱電源(3T)以及磁場產(chǎn)生機構(gòu)(20)。絲(3)具有一端部(31)和另一端部(32)。磁場產(chǎn)生機構(gòu)(20)包括：在包含絲(3)的一端部(31)的區(qū)域中...該專利屬于株式會社神戶制鋼所所有，僅供學習研究參考，未經(jīng)過株式會社神戶制鋼所授權(quán)不得商用。