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本發明提供一種襯底處理裝置，能夠抑制處理氣體向襯底沒有層疊的區域的流入，促進處理氣體向襯底層疊區域的供給。襯底處理裝置具有：收納以水平姿態多層層疊的襯底并對襯底進行處理的處理室；以沿處理室的內壁的方式在襯底的層疊方向上延伸并向處理室內供給處...
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