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提供一種特性的不均勻小的半導體裝置。形成第一絕緣體，在第一絕緣體上形成導電體，在導電體上形成第二絕緣體，在第二絕緣體上形成第三絕緣體，在第三絕緣體上形成氧化物，進行第一加熱處理，以及在進行第一加熱處理之后，接著進行第二加熱處理，其中第一加熱...
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