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本發(fā)明涉及成型設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種熱處理成型設(shè)備，包括底座，所述底座的頂端固定安裝有下模，所述下模的頂端設(shè)置有上模，所述上模的底端固定安裝有半圓壓塊，所述下模的頂部在半圓壓塊的相對(duì)位置開(kāi)始有半圓凹槽，所述下模頂壁的兩側(cè)均固定安裝有用于對(duì)...該專(zhuān)利屬于蘇準(zhǔn)所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)蘇準(zhǔn)授權(quán)不得商用。