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提供了曝光掩模。該曝光掩模包括被曝于光以在襯底上形成圖案的圖案部分、圍繞圖案部分的外圍的圍繞部分以及布置在圍繞部分中的校正圖案部分。校正圖案部分沿圖案部分的邊緣以線排列布置。線排列布置。線排列布置。...
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