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本實用新型涉及一種用于改善CMOS晶圓淺結工藝的激光退火設備，包括激光器、光束指向調節系統、擴束鏡、功率調節系統、刀口、第三合束鏡、光束質量分析儀、積分鏡、加熱盤、運動平臺、電腦、三色溫熱發射探測器和激光測距儀。功率調節系統由設置在光路上的...
該專利屬于上海市激光技術研究所所有，僅供學習研究參考，未經過上海市激光技術研究所授權不得商用。

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