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本發明提供浸沒式光刻用抗蝕劑保護膜材料。包含聚合物（Ｆ）的堿溶性的浸沒式光刻用抗蝕劑保護膜材料，所述聚合物（Ｆ）包含通過具有含氟橋環結構的聚合性化合物（ｆ↑［ｍ］）的聚合而形成的重復單元（Ｆ↑［Ｕ］）。例如，重復單元（Ｆ↑［Ｕ］）為通過選自...
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