浸沒式光刻用抗蝕劑保護膜材料制造技術

本發明專利技術提供浸沒式光刻用抗蝕劑保護膜材料。包含聚合物（Ｆ）的堿溶性的浸沒式光刻用抗蝕劑保護膜材料，所述聚合物（Ｆ）包含通過具有含氟橋環結構的聚合性化合物（ｆ↑［ｍ］）的聚合而形成的重復單元（Ｆ↑［Ｕ］）。例如，重復單元（Ｆ↑［Ｕ］）為通過選自下述化合物（ｆ１）～（ｆ４）的化合物（ｆ）的聚合而形成的重復單元；Ｒ↑［Ｆ］表示Ｈ、Ｆ、碳數１～３的烷基或碳數１～３的氟代烷基，Ｘ↑［Ｆ］表示Ｆ、ＯＨ或ＣＨ↓［２］ＯＨ。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】

【技術保護點】
堿溶性的浸沒式光刻用抗蝕劑保護膜材料，其特征在于，包含聚合物（Ｆ），所述聚合物（Ｆ）包含通過具有含氟橋環結構的聚合性化合物（ｆ↑［ｍ］）的聚合而形成的重復單元（Ｆ↑［Ｕ］）。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...

【專利技術屬性】
技術研發人員：武部洋子，王舒鐘，橫小路修，代田直子，松川泰久，白川大祐，
申請(專利權)人：旭硝子株式會社，
類型：發明
國別省市：JP[日本]