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本實(shí)用新型涉及晶圓表面薄膜制備設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種用于晶圓薄膜制備的穹頂輔助裝置，包括平臺(tái)、平面密封板和管路，平臺(tái)上固定平面密封板，平面密封板上設(shè)置有溝槽，溝槽的形狀與穹頂?shù)倪吘壭螤钕嗥ヅ洌脚_(tái)及平面密封板位于溝槽內(nèi)側(cè)的部分開設(shè)有氣孔，...該專利屬于天津維普泰克科技發(fā)展有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)天津維普泰克科技發(fā)展有限公司授權(quán)不得商用。