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本發明公開的一種清洗半導體機臺零部件的方法，包括如下步驟：(1)配制清洗液；(2)浸泡半導體機臺零部件；(3)采用擦擦克林伸入容器內，擦拭經步驟(2)浸泡后的半導體機臺零部件；(4)經步驟(3)擦拭處理后，將半導體機臺零部件轉移到另一個干凈...
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