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本公開涉及基板處理裝置、基板載置機構和基板處理方法。能夠在一個處理容器內對被處理基板以高生產率連續地進行溫度不同的多個工序?；逄幚硌b置具有：處理容器；處理氣體供給機構，其向處理容器內供給處理氣體；基板載置臺，其載置被處理基板；制冷劑流路，...
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