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本發明公開了一種集成肖特基二極管的SiC雙溝槽型MOSFET器件,該SiC雙溝槽型MOSFET器件有源區的原胞結構中設置有兩個溝槽,分別是設置在原胞結構中心的柵溝槽和柵溝槽的外圍的源溝槽;柵溝槽和源溝槽的底部四周均進行了與漂移區相反導電類型...該專利屬于北京世紀金光半導體有限公司所有,僅供學習研究參考,未經過北京世紀金光半導體有限公司授權不得商用。
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本發明公開了一種集成肖特基二極管的SiC雙溝槽型MOSFET器件,該SiC雙溝槽型MOSFET器件有源區的原胞結構中設置有兩個溝槽,分別是設置在原胞結構中心的柵溝槽和柵溝槽的外圍的源溝槽;柵溝槽和源溝槽的底部四周均進行了與漂移區相反導電類型...