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本實用新型公開了一種鍍膜設備，用以延長鍍膜設備備件的使用壽命，提高玻璃基板的成膜均勻性，進而提高TFT的產(chǎn)品良率。所述鍍膜設備，包括真空反應腔體，以及位于真空反應腔體內(nèi)的上部電極板和下部電極板，所述設備還包括與所述下部電極板的支撐柱電連接的...該專利屬于北京京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司所有，僅供學習研究參考，未經(jīng)過北京京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司授權不得商用。