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本發明公開了一種用于濺射腔室的靶材組件，所述靶材組件包括按第一方向排列的n個第一靶材，以及按與第一方向互相垂直的第二方向排列的兩個第二靶材，其中，至少部分第一靶材位于所述兩個第二靶材之間；并且，每一第一靶材以及每一第二靶材由功率源分別控制；...該專利屬于深圳市華星光電技術有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過深圳市華星光電技術有限公司授權不得商用。
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本發明公開了一種用于濺射腔室的靶材組件，所述靶材組件包括按第一方向排列的n個第一靶材，以及按與第一方向互相垂直的第二方向排列的兩個第二靶材，其中，至少部分第一靶材位于所述兩個第二靶材之間；并且，每一第一靶材以及每一第二靶材由功率源分別控制；...