本發明專利技術的聚乳酸系薄膜或片為含有聚乳酸(A)的樹脂薄膜或片,其通過下述式(1)ΔHc′=ΔHm-ΔHc(1)[式中,ΔHc為通過DSC測定的、成膜后的薄膜或片在升溫過程伴隨著結晶化的放熱量(J/g),ΔHm為伴隨著其后的熔解的吸熱量(J/g)]求得的成膜時結晶化部的熔解吸熱量ΔHc′為10J/g以上,并且撕裂強度在移動方向(MD方向)、寬度方向(TD方向)均為2.5N/mm以上。通過該聚乳酸系樹脂薄膜或片,即使在超過100℃的高溫下,薄膜或片也不會熔解、變形,而且在薄膜或片的制造時、加工時,在將薄膜或片卷繞成輥狀時等不會產生斷裂、開裂。
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及聚乳酸系薄膜或片,更詳細而言,涉及耐熱性優異、并且在制造時、力口工時不會產生斷裂、開裂的聚乳酸系薄膜或片。另外,本專利技術涉及隔離膜,更詳細而言,涉及將耐熱性優異、并且在制造時、加工時不會產生斷裂、開裂的聚乳酸系薄膜或片作為基材的隔離膜(剝離襯墊)。該隔離膜可用于保護粘合帶、粘合片、標簽等的粘合劑層面。進而,本專利技術涉及粘合帶或片,更詳細而言,涉及將耐熱性優異、并且在制造時、力口工時不會產生斷裂、開裂的聚乳酸系薄膜或片作為基材的粘合帶或片。再有,本專利技術涉及保護薄膜(包括片),更詳細而言,涉及將耐熱性優異、并且在制造時、加工時不會產生斷裂、開裂的聚乳酸系薄膜或片作為基材的保護薄膜。該保護薄膜可在用于保護汽車車輪圈的表面的保護薄膜;用于保護在液晶顯示器等中使用的偏光板、波長板、相位差板、反射片等光學部件或者電子部件的表面的保護薄膜;用于保護在等離子體顯示器面板、CRT的電磁波屏蔽材料等中使用的金屬層或金屬氧化物層的表面的保護薄膜等中使用。保護薄膜可在不需要的階段剝離去除。
技術介紹
聚乳酸為來自植物的生物質聚合物,作為代替來自石油的聚合物的樹脂而受到關注。然而,聚乳酸的結晶化速度慢,通過通常的成膜手段幾乎不會結晶化。因此,由含有聚乳酸的樹脂組合物形成的薄膜在聚乳酸的玻璃化轉變溫度60°C以上時存在產生熱變形、無法保持薄膜形狀這樣的問題。因此,以往為了改善聚乳酸系樹脂薄膜的耐熱性,提出了若干方法。例如,已知有在通過熔融擠出法將含有聚乳酸的樹脂組合物薄膜化之后,通過雙軸拉伸使其拉伸而取向結晶化,由此提高聚乳酸系樹脂薄膜的耐熱性的方法。然而,在該方法中,由于存在拉伸時的內部殘留應力,因此具有如果使用溫度變高則熱收縮會變得非常大這樣的缺點。因此,實際上能夠使用的溫度最多至100°c左右。在日本特開平11-116788號公報(專利文獻I)中,提出了通過在聚乳酸中共混高熔點材料來提高耐熱性的方法。然而,在該方法中來自植物的成分比率(生物質度)會降低。在日本特開2010-106272號公報(專利文獻2)中,公開了一種聚乳酸系樹脂薄膜或片的制造方法,其特征在于,其在從該樹脂組合物的降溫過程中的結晶化溫度(Tc) +15°C至該樹脂組合物的升溫過程中的熔解溫度(Tm)-5°C的溫度范圍對含有聚乳酸的樹脂組合物進行熔融成膜;或者在將含有聚乳酸的樹脂組合物熔融成膜后,經歷在該樹脂組合物的降溫過程中的結晶化溫度(Tc)±10°C的溫度下促進結晶的工序,然后冷卻固化。然而,這樣得到的聚乳酸系樹脂薄膜或片雖然耐熱性得到改善,但是在制造時、加工時,在卷繞成輥狀時等,在薄膜或片處有 可能產生斷裂、開裂。因此,將這種薄膜或片作為隔離膜(剝離襯墊)、粘合帶、保護薄膜等基材使用時,在隔離膜等的制造時、加工時,在隔離膜等處有時會產生斷裂、開裂?,F有技術文獻專利文獻專利文獻1:日本特開平11-116788號公報專利文獻2:日本特開2010-106272號公報
技術實現思路
專利技術要解決的問題因此,本專利技術的目的在于提供一種聚乳酸系樹脂薄膜或片,其即使在超過100°C的高溫下,薄膜或片也不會熔解、變形,而且在薄膜或片的制造時、加工時,在將薄膜或片卷繞成輥狀時等不會產生斷裂、開裂。另外,本專利技術的另一目的在于提供一種將聚乳酸系薄膜或片作為基材的隔離膜,該聚乳酸系薄膜或片即使在超過100°c的高溫下,基材也不會熔解、變形,而且在隔離膜的制造時、加工時,在卷繞成輥狀時等不會產生斷裂、開裂。進而,本專利技術的另一目的在于提供一種將聚乳酸系薄膜或片作為基材的粘合帶或片,該聚乳酸系薄膜或片即使在超過100°c的高溫下,基材也不會熔解、變形,而且在粘合帶或片的制造時、加工時,在卷繞成輥狀時等不會產生斷裂、開裂。再有,本專利技術的另一目的在于提供一種將聚乳酸系薄膜或片作為基材的保護薄膜,該聚乳酸系薄膜或片即使在超過100°c的高溫下,基材也不會熔解、變形,而且在保護薄膜的制造時、加工時,在卷繞成輥狀時等不會產生斷裂、開裂。用于解決問 題的方案本專利技術人等為了達成上述的目的而進行了深入研究,結果發現,通過將聚乳酸系樹脂薄膜或片成膜時結晶化部的熔解吸熱量設在特定值以上,并且將撕裂強度設在一定值以上,能夠解決上述問題,從而完成了本專利技術。S卩,本專利技術為一種聚乳酸系薄膜或片,其特征在于,其為含有聚乳酸(A)的樹脂薄膜或片,其通過下述式(I)求得的成膜時結晶化部的熔解吸熱量AHc'為10J/g以上,AHc' = AHm-AHc (I)并且撕裂強度(依據JIS P8116紙-撕裂強度試驗方法-埃爾門多夫型撕裂試驗機法)在移動方向(MD方向)、寬度方向(TD方向)均為2.5N/mm以上。前述聚乳酸系薄膜或片相對于100重量份聚乳酸(A)可以進一步含有0.5 15重量份氟系聚合物(B)。氟系聚合物(B)可以為四氟乙烯系聚合物。前述聚乳酸系薄膜或片相對于100重量份聚乳酸(A)可以進一步含有0.1 15重量份結晶促進劑(C)。前述聚乳酸系薄膜或片相對于100重量份聚乳酸(A)可以進一步含有0.1 10重量份酸性官能團改性烯烴系聚合物(D),所述酸性官能團改性烯烴系聚合物(D)的酸價為10 70mgK0H/g、重均分子量為10000 80000。前述聚乳酸系薄膜或片可以為通過熔融成膜法例如通過壓延法成膜而得到的薄膜或片。另外,本專利技術提供一種隔離膜,其特征在于,其為在隔離膜基材的至少一面具有剝離劑處理層的隔離膜,該隔離膜基材是由前述的聚乳酸系薄膜或片構成的。進而,本專利技術提供一種粘合帶或片,其特征在于,其為在基材的至少一面具有粘合劑層的粘合帶或片,該基材是由前述的聚乳酸系薄膜或片構成的。再有,本專利技術提供一種保護薄膜,其特征在于,其為在基材的至少一面具有再剝離性粘合劑層的保護薄膜,該基材是由前述的聚乳酸系薄膜或片構成的。在本說明書中,除了上述技術方案外,還對下述的聚乳酸系薄膜或片、隔離膜、粘合帶或片、以及保護薄膜所涉及的技術方案進行說明。 一種聚乳酸系薄膜或片,其特征在于,其為含有聚乳酸(A)的樹脂薄膜或片,相對于該100重量份聚乳酸(A),以總量計含有I 20質量份聚甘油脂肪酸酯和/或聚甘油縮合羥基脂肪酸酯(F),并且通過下述式(I)求得的成膜時結晶化部的熔解吸熱量AHc,為 10J/g 以上。Δ He' = Δ Hm- Δ He (I)根據前述所述的聚乳酸系薄膜或片,其相對于100重量份聚乳酸(A)進一步含有0.5 15重量份氟系聚合物(B)。根據前述所述的聚乳酸系薄膜或片,其中,氟系聚合物(B)為四氟乙烯系聚合物。根據前述 中的任一項所述的聚乳酸系薄膜或片,其相對于100重量份聚乳酸(A)進一步含有0.1 15重量份結晶促進劑(C)。根據前述 中的任一項所述的聚乳酸系薄膜或片,其相對于100重量份聚乳酸(A)進一步含有0.1 10重量份酸性官能團改性烯烴系聚合物(D),所述酸性官能團改性烯烴系聚合物(D)的酸價為10 70mgK0H/g、重均分子量為10000 80000。根據前述 中的任一項所述的聚乳酸系薄膜或片,其為通過熔融成膜法成膜而得到的薄膜或片。根據前述所述的聚乳酸系薄膜或片,其中,熔融成膜法為壓延法。 一種隔離膜,其特征在于,其為在隔離膜基材的至少一面具有剝離劑處理層的隔離本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...
【專利技術屬性】
技術研發人員:石黑繁樹,吉江里美,千田洋毅,高比良等,關口裕香,林內梨惠,遠藤明日香,
申請(專利權)人:日東電工株式會社,
類型:
國別省市:
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