使用傳送涂布來(lái)施加薄涂布層制造技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)涉及一種涂覆基底的方法。此方法已確定第一涂布層可以比其流變性和/或表面性質(zhì)通常所允許的更薄的層形式施加到基底上。這是通過(guò)使用由第二涂布模分配并充當(dāng)“動(dòng)態(tài)液體橡皮掃帚”的第二涂布流體通過(guò)改變所述第二涂布模和所述基底之間的間隙將所述第一涂布層傳送、展布甚至或定量于所述基底上來(lái)實(shí)現(xiàn)。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】使用傳送涂布來(lái)施加薄涂布層
技術(shù)介紹
目前，需要通過(guò)在連續(xù)幅材上涂布兩層或更多層流體制成的高性能涂布制品。可使用單層涂布工藝涂布流體，使得依次地涂布流體，其中每層完成干燥、固化等步驟后，再涂布下一層。鑒于例如效率和成本等原因，采用將流體同時(shí)或接近同時(shí)涂布到幅材上的多層涂布工藝通常是更為理想的。多層涂布工藝所用的涂敷器可設(shè)計(jì)為遞送多種流體，但如果要同時(shí)涂布流體時(shí)則通常并非如此。即，為了同時(shí)涂布一組給定流體，用于多層涂布方法中的具體的涂敷器和加工條件通常決定流體就例如表面張力、粘度等特定的性能會(huì)多么的不同。基底和最接近于所述基底沉積的層之間的相互作用也需要考慮。因此，需要可同時(shí)涂布彼此性質(zhì)截然不同的流體的多層涂布方法。還需要增加難以用于進(jìn)行基底涂布的材料類型的多層涂布方法。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
現(xiàn)已確定涂層可以比其流變性和/或表面性質(zhì)通常所允許的更薄的層形式施加到基底上。這是通過(guò)使用由一個(gè)涂布模狹槽分配的傳送層充當(dāng)“動(dòng)態(tài)橡皮掃帚”以將由不同涂布模狹槽分配的另一涂布層展布并均勻涂布到基底上來(lái)實(shí)現(xiàn)。傳送層的流變性的操作以及分配傳送層的涂布模狹槽的實(shí)體定位的操作都可用作處理參數(shù)以實(shí)現(xiàn)適合特定目的的基礎(chǔ)涂布層的展布量。從而，在一個(gè)實(shí)施例中，本專利技術(shù)在于一種涂布基底的方法，其包括以下步驟:提供具有第一狹槽寬度的第一涂布模；提供具有第二狹槽寬度的第二涂布模；將第一涂布流體從所述第一涂布模施加到基底上，形成第一涂布層；將粘彈性第二涂布流體從所述第二涂布模施加到所述基底上的所述第一涂布層上，形成第二涂布層；以及改變第二涂布模和基底之間的間隙以增加寬度并減小基底上的第一涂布層的厚度。附圖說(shuō)明 本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)了解，本專利技術(shù)的討論僅是針對(duì)示例性實(shí)施例的描述，其并不旨在限制本專利技術(shù)的更廣泛的方面，其中更廣泛的方面體現(xiàn)在示例性構(gòu)造中。圖1示出利于實(shí)施本專利技術(shù)的方法的涂布裝置的示意圖。圖2是描繪實(shí)例1、2和3的涂布幅材的一段的面平面圖。圖3是用于實(shí)施本專利技術(shù)的方法的替代性涂布裝置的俯視圖。圖4是層合于根據(jù)本專利技術(shù)的方法制成的基底的粘合劑層在其微復(fù)制型襯片已剝離后的顯微照片。在說(shuō)明書和附圖中重復(fù)使用的參考標(biāo)號(hào)旨在表示本專利技術(shù)相同或類似的特征或元件。如本文所用，詞語(yǔ)“包含”、“具有”和“包括”在法律上是具有等同含義的開放型術(shù)語(yǔ)。因此，除了列舉的元件、功能、步驟或限制之外，還可以有其他未列舉的元件、功能、步驟或限制。如本文所用，“粘彈性”的意思是當(dāng)經(jīng)歷變形時(shí)同時(shí)表現(xiàn)粘性和彈性特性。具體實(shí)施例方式在涂布操作中，表面張力和表面能是兩種重要的性質(zhì)。對(duì)于將單層流體涂布到基底上，如果流體的表面張力小于基底的表面能，那么流體將適當(dāng)潤(rùn)濕基底。若非如此，那么沿流體表面施加的力可能會(huì)使其“結(jié)珠”并形成液滴。同樣，在將兩種不同的流體同時(shí)或依序涂布到基底上的典型多層涂布操作中，眾所周知的是，與首先施加到基底上的流體相t匕，用于形成上層的流體必須具有更低的表面張力。否則，用于形成上層的流體將不能潤(rùn)濕形成于其下的另一層。關(guān)于多層涂布操作中表面張力與表面能關(guān)系的進(jìn)一步討論可見于 Cohen, E.and Gutoff, E.Modern Coating and Drying Technology (現(xiàn)代涂布和干燥技術(shù));VCH 出版社:紐約,1992 ;第 122 頁(yè)；和 Tricot Y-M.Surfactants: Static and DynamicSurface Tension in Liquid Film Coating (表面活性劑:液體膜涂布中的靜態(tài)和動(dòng)態(tài)表面張力)；Kistler, S.F.和 Schweizer, P.M.編；Chapman&Hal1: London (倫敦)，1997 ;第 99頁(yè)。令人驚訝的是，盡管上文描述了教導(dǎo)內(nèi)容，仍可通過(guò)首先用潤(rùn)濕層涂布基底，并隨后用拉伸層涂布，所述拉伸層常常有助于將潤(rùn)濕材料運(yùn)送和遞送到基底并因此稱為“傳送層”，以及使用傳送層作為“液體橡皮掃帚”以抵住基底拉平并均勻地展布潤(rùn)濕層，來(lái)向制造商提供涂層和基底材料以及例如流速線速度和/或固化條件二者加工條件的較寬選擇。在其他應(yīng)用中，本專利技術(shù)用于制造用于半卡拖車或車輛的側(cè)面板的大規(guī)模粘合劑圖形。在這些應(yīng)用中，結(jié)構(gòu)化襯片和具有在粘合劑中形成排氣通道形狀的圖案允許施加粘合劑圖形而不會(huì)在粘附表面和粘合劑圖形之間截留大的氣囊。然而，這需要平衡在即將使用時(shí)粘合劑從結(jié)構(gòu)化襯片釋解的能力、在制造期間涂布結(jié)構(gòu)化襯片的能力以及粘合劑和粘附于第二涂層的背襯材料的內(nèi)聚力的微妙的方法。使用本專利技術(shù)的技術(shù)，并使用作為結(jié)構(gòu)化襯片的基底，潤(rùn)濕層可選擇用于重新定位性，用于形成相鄰于結(jié)構(gòu)化襯片的極薄的保形層，以及用于有效地潤(rùn)濕結(jié)構(gòu)化襯片 以在潤(rùn)濕層和結(jié)構(gòu)化襯片之間截留最少的細(xì)小氣泡。現(xiàn)在參見圖1，示出用于實(shí)施本專利技術(shù)的方法的涂布裝置10的示意圖。涂布裝置10包括具有具第一狹槽寬度的第一狹槽12a的第一涂布模12和具有具第二狹槽寬度的第二狹槽14a的第二涂布模14。在一些實(shí)施例中，第二狹槽寬度14a大于第一狹槽寬度12a。第二狹槽寬度可以顯著大于第一狹槽寬度，且在一個(gè)實(shí)施例中，第二狹槽寬度是第一狹槽寬度的2.0倍。第二狹槽寬度可以等于或大于第一狹槽寬度，因?yàn)闈?rùn)濕層的最終涂層寬度和所得的干厚度是通過(guò)壓力和遞送到充當(dāng)橡皮掃帚的涂布材料的滾動(dòng)料堆的可用材料的量來(lái)確定。通常對(duì)第一狹槽寬度12a進(jìn)行選擇，以使得對(duì)于附近的流變性在第二涂布模和基底之間可能存在適當(dāng)?shù)拈g隙。具有多個(gè)開口的第一墊片可用于所需最終結(jié)果將是在潤(rùn)濕層條帶上方的連續(xù)傳送層的情況。基底20由支撐輥22輸送和定位。第二涂布模14設(shè)有能夠更改或改變第二涂布模14的狹槽14a和基底20之間的間隙25的支承機(jī)構(gòu)24。機(jī)械工程領(lǐng)域的技術(shù)人員已知多種支承機(jī)構(gòu)且這種支承機(jī)構(gòu)可如用以改變第二涂布模具的螺栓連接位置的一系列鉆孔一樣的簡(jiǎn)單，又如具有滑動(dòng)支承的螺桿和手動(dòng)曲柄一樣的中度難易程度，或如計(jì)算機(jī)控制線性伺服傳動(dòng)裝置一樣復(fù)雜。如下文更詳細(xì)地討論，改變間隙25用來(lái)改變由第一涂布模12分配于基底20上的第一涂布層27的寬度(圖2)。待由第一涂布模12分配的材料保存于第一儲(chǔ)存容器30中。在許多實(shí)施例中，來(lái)自第一儲(chǔ)存容器30的材料將由第一泵32加壓。相似地，待由第二涂布模14分配的材料保存于第二儲(chǔ)存容器40中。在許多實(shí)施例中，來(lái)自第二儲(chǔ)存容器40的材料將由第二泵42加壓且由流量計(jì)44定量。涂布幅材20a在第二涂布模14后從支撐輥22上分離。在一些實(shí)施例中，第一和第二涂布模可封閉于單個(gè)模體中。所述布置如同在未決的且共同轉(zhuǎn)讓的美國(guó)專利申請(qǐng)2009/0110861A1, “Pressure Sensitive AdhesiveArticle”(《壓敏粘合劑制品》)(Sherman)中所示,其以引用方式并入本文中。現(xiàn)在參見圖3，示出替代性涂布裝置10’的俯視圖。涂布裝置10’具有封閉于單個(gè)模體中的第一模12’和第二模14’。在這張視圖中，所示與本專利技術(shù)有關(guān)的是，由第一狹槽12a分配的第一涂布流體無(wú)須均勻地展布或完全潤(rùn)濕由第二狹槽14a分配的第二涂布流體。來(lái)自第一模狹槽12a的流出物可能分裂開和呈片狀；將第一涂布流體傳送到基底20時(shí)在第二涂布流體的滾動(dòng)料堆50中使其不連續(xù)性平滑并抹除。本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：威廉·R·達(dá)德利，威廉·布萊克·科爾布，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：三M創(chuàng)新有限公司，
類型：
國(guó)別省市：