【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及一種功能單體,特別涉及分子結(jié)構(gòu)中含有季銨鹽和salophen配合物或Salen配合物的功能單體，用于制備金屬離子印跡聚合物，屬于功能高分子材料領(lǐng)域。技術(shù)背景印跡聚合物是指以某一特定的目標(biāo)分子為模板，將結(jié)構(gòu)上具有互補(bǔ)性的功能單體通過相互作用(配位鍵、氫鍵、范德華力、靜電作用、疏水作用等)與模板分子結(jié)合，加入交聯(lián)劑進(jìn)行聚合反應(yīng)，反應(yīng)完成后，將模板分子洗脫出來，形成一種大小或形狀與模板分子完全相同的空穴，能夠高選擇性地識別吸附模板模板分子的剛性聚合物材料。金屬離子印跡聚合物是以金屬離子為模板，通過靜電、配位等作用與帶有配位基的功能單體相互作用，并通過聚合過程被“記憶”下來。配位功能單體與金屬離子之間的離子鍵和配位鍵比氫鍵、范德華力、靜電作用、疏水作用等具有更強(qiáng)的作用力，空間結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，定向性強(qiáng)，有利于制備高選擇性的、印跡功能穩(wěn)定的印跡聚合物；通過配位作用的識別過程具有結(jié)合快速且可逆的優(yōu)點(diǎn)；另外，金屬離子配位作用在極性體系中可以穩(wěn)定存在，這就使水溶性模板和印跡聚合物的制備和應(yīng)用成為可能；常常是過渡金屬離子配位作用具有良好的熱力學(xué)穩(wěn)定性，比較容易達(dá)到動力學(xué)平衡，應(yīng)用范圍廣泛。盡管印跡技術(shù)發(fā)展迅速，而且得到比較廣泛的應(yīng)用，但仍然存在很多問題。其中之一是目前可使用的功能單體的種類太少，功能單體的功能單一，以至于不能滿足某些模板識別的要求，或不能滿足實(shí)際應(yīng)用的需要；另外印跡聚合物大多只能在有機(jī)相中進(jìn)行聚合和應(yīng)用，而天然的模板識別系統(tǒng)大多是在水溶液中進(jìn)行的，如何能在水溶液中或極性溶劑中進(jìn)行模板印跡和識別仍是一大難題。故合成種類更多、性能更好的功能單體，模板...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種功能單體，其特征在于具有通式(I)所示化學(xué)結(jié)構(gòu)：其中通式(I)中的R選取H或甲基，R1和R2分別選取C1～C18烷基中的一種，Y選取O或NH，n選取2、3、4、5或6中的一種，Z選取C2～C6烷基、苯環(huán)、萘環(huán)或吡啶環(huán)中的一種，M選自過渡金屬離子，L選自水、甲醇、乙醇、丙酮、丙烯酰胺、2?甲基丙烯酰胺、丙烯酰肼、2?甲基丙烯酰肼、丙烯酸、2?甲基丙烯酸、1?乙烯基咪唑、1?烯丙基咪唑、4?乙烯基吡啶、2?乙烯基吡啶、N?(4?乙烯基苯基)亞胺雙乙酸、烯丙基磺酸或5?乙烯基水楊醛中的一種或兩種以上，m選自0、1、2或3中的一種，X?選自F?、Cl?、Br?、I?、HSO4?、H2PO4?或CH3COO?中的一種。FSA00000883086400011.tif
【技術(shù)特征摘要】
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：張?zhí)锪?/a>，朱彩艷，
申請(專利權(quán))人：淮海工學(xué)院，
類型：發(fā)明
國別省市：
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