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    一種用于四氯化硅水解的裝置制造方法及圖紙

    技術(shù)編號:8902282 閱讀:313 留言:0更新日期:2013-07-10 22:48
    本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種用于四氯化硅水解的裝置,其包括射流噴射器8、水解反應釜16和兩個循環(huán)系統(tǒng);所述射流噴射器8與水解反應釜16的料液進口9連通,在射流噴射器8上設(shè)有開口6和四氯化硅進口7;所述水解反應釜16的一側(cè)下部設(shè)有釜液出口10a;所述的釜液出口10a通過管路和循環(huán)泵3a與射流噴射器8的開口6連通,形成第一個循環(huán)系統(tǒng);所述循環(huán)泵3a連通進水管路;所述水解反應釜16的另一側(cè)下部設(shè)有釜液出口10b,水解反應釜16設(shè)有循環(huán)液進口13;所述的釜液出口10b通過管路和循環(huán)泵3b與水解反應釜16的循環(huán)液進口13連通,形成另一個循環(huán)系統(tǒng)。本裝置增強了四氯化硅和水的混合程度,使得水解反應快速充分的進行,縮短反應時間,提高單臺設(shè)備生產(chǎn)能力。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)屬于化工領(lǐng)域,具體涉及一種用于四氯化硅水解的裝置
    技術(shù)介紹
    近幾年,隨著信息技術(shù)和太陽能產(chǎn)業(yè)帶飛速發(fā)展,國內(nèi)對多晶硅的需求增長迅猛。多晶硅企業(yè)在生產(chǎn)過程中副產(chǎn)大量的四氯化硅,四氯化硅如果不能被很好地利用,不僅會使資源造成浪費,而且對環(huán)境會造成嚴重的污染。國內(nèi)企業(yè)主要采用氣相法白炭黑生成工藝處理四氯化硅,將四氯化硅和一定量的氫氣和氧氣在1000-1200°C的高溫水解爐進行反應。該方法對設(shè)備要求高,技術(shù)復雜,產(chǎn)量低。關(guān)于利用四氯化硅水解裝置報道很少,并且主要存在以下幾個問題:1)四氯化硅水解是一個快速反應,工業(yè)上的攪拌轉(zhuǎn)速較低,很難實現(xiàn)均勻的混合;2)四氯化硅水解產(chǎn)生大量的氯化氫,腐蝕設(shè)備。因此,解決四氯化硅和水混合均勻這一問題就顯的極其重要。
    技術(shù)實現(xiàn)思路
    本專利技術(shù)的目的在于提供一種加強物料混合、減緩腐蝕的用于四氯化硅水解的裝置。·為解決以上技術(shù)問題,本專利技術(shù)的技術(shù)方案是:該裝置包括射流噴射器、水解反應釜和兩個循環(huán)系統(tǒng);所述射流噴射器與水解反應釜的料液進口連通,在射流噴射器上設(shè)有開口和四氯化硅進口; 所述水解反應釜的一側(cè)下部設(shè)有釜液出口 ;所述的釜液出口通過管路和循環(huán)泵與射流噴射器的開口連通,形成第一個循環(huán)系統(tǒng);所述循環(huán)泵連通進水管路; 所述水解反應釜的另一側(cè)下部設(shè)有釜液出口,水解反應釜設(shè)有循環(huán)液進口 ;所述的釜液出口通過管路和循環(huán)泵與水解反應釜的循環(huán)液進口連通,形成另一個循環(huán)系統(tǒng)。本專利技術(shù)所述第一個循環(huán)系統(tǒng)的管路上設(shè)有釜液出口閥和流量計;所述另一個循環(huán)系統(tǒng)的管路上設(shè)有釜液出口閥和流量計。本專利技術(shù)所述的水解反應釜的上部為塔式反應器,內(nèi)裝有填料,頂部設(shè)有氯化氫出口和循環(huán)液進口;下部為釜式反應器,設(shè)有料液進口、釜液出口、釜液出口和底部的排液口。本專利技術(shù)所述水解反應釜的內(nèi)襯為搪瓷材料,所述循環(huán)泵選用耐酸堿真空泵,所述射流噴射器選用耐腐隔膜泵。本專利技術(shù)在使用時,水通過循環(huán)泵進入第一個循環(huán)系統(tǒng),利用水在管路中流動造成吸力將四氯化硅帶到射流噴射器,與水進行混合,直接進入水解反應釜內(nèi)的液面以下,釜液通過水解反應釜一側(cè)的開口進入循環(huán)泵的進口,完成一次循環(huán)。水解反應釜內(nèi)釜液也可以通過水解反應釜另一側(cè)的出口進入另一個循環(huán)系統(tǒng),從而構(gòu)成兩個循環(huán)系統(tǒng),增強四氯化硅與水的混合程度,加速四氯化硅的水解;另一個循環(huán)系統(tǒng)的水從水解反應釜上部流下,流進填料,可以吸收反應過程中產(chǎn)生的汽化的四氯化硅,而氯化氫通過排氣閥排出,反應產(chǎn)生的二氧化硅從水解反應釜的底閥排出。采用了上述技術(shù)方案后,本專利技術(shù)的有益效果是:由于本專利技術(shù)擁有兩個循環(huán)系統(tǒng),所述物料循環(huán)管路連通水解反應釜的底部和頂部,四氯化硅通過射流噴射器加入到循環(huán)體系中,所述循環(huán)管路中設(shè)有循環(huán)泵,所以,溶液在循環(huán)管路里不停的循環(huán)流動,增強了四氯化硅和水的混合程度,使得水解反應快速充分的進行,縮短反應時間,提高單臺設(shè)備生產(chǎn)能力。本專利技術(shù)的水解反應釜的內(nèi)襯采用搪瓷材料,且氯化氫可即時的從氯化氫出口排出,從而有效地減少了氯化氫對設(shè)備的腐蝕。附圖說明圖1是本專利技術(shù)所用的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。附圖中:1-水進料閥;2-爸液出口閥;3a_循環(huán)泵;3b_循環(huán)泵;4-流量計;5-四氯化硅進料閥;6-開口 ;7-四氯化硅進口 ;8_射流噴射器;9_料液進口 ;10a-釜液出口 ;IOb-釜液出口 ; 11-排氣閥;12-氯化氫出口 ; 13-循環(huán)液進口 ;14_噴頭;15_填料;16_水解反應釜;17-排液口 ; 18-排液閥;19-釜液出口閥;20_流量計。具體實施例方式圖1所示,本用于四氯化硅水解的裝置包括射流噴射器8、水解反應釜16和兩個循環(huán)系統(tǒng)。所述的水解反應釜16采用搪瓷反應釜,其上部為塔式反應器,內(nèi)裝有填料15,頂部設(shè)有氯化氫出口 12和循環(huán)液進口 13,氯化氫通過氯化氫出口 12排出,氯化氫出口 12設(shè)有排氣閥11 ;下部為釜式反應器,設(shè)有料液進口 9、釜液出口 10a、釜液出口 IOb和底部的排液口 17 ;反應產(chǎn)生的二氧化硅從水解反應釜16底部的排液口 17排出,排液口 17設(shè)有排液閥18。所述射流噴射器8與水解反應釜16的料液進口 9連通,在射流噴射器8上設(shè)有開口 6和四氯化硅進口 7;所述射流噴射器8最好選用耐腐隔膜泵。所述的兩個循環(huán)系統(tǒng)的管路連通水解反應釜16的底部和頂部,所述循環(huán)管路中設(shè)有循環(huán)泵3a和循環(huán)泵3b,所述循環(huán)泵最好選用耐酸堿真空泵。圖1所示,本用于四氯化硅水解的裝置中用于控制進水的水進料閥I的出口連接循環(huán)泵3a的進口,循環(huán)泵3a的出口連接流量計4的進口,流量計4的出口連接射流噴射器8的開口 6,四氯化硅通過四氯化硅進料閥5和四氯化硅進口 7進入射流噴射器8與水進行混合,通過料液進口 9進入水解反應釜16內(nèi)的液面以下,釜液通過位于水解反應釜16—側(cè)下部的釜液出口 IOa進入循環(huán)管道,即釜液通過依次連通釜液出口 10a、釜液出口閥2、循環(huán)泵3a、流量計4、噴射泵的開口 6的管路后進入水解反應釜16形成第一個循環(huán)系統(tǒng)。圖1所示,本用于四氯化硅水解的裝置的水解反應釜16另一側(cè)下部的釜液出口IOb和循環(huán)泵3b之間設(shè)有釜液出口閥19,循環(huán)泵3b和循環(huán)液進口 13之間設(shè)有流量計20 ;這樣,釜液通過依次連通釜液出口 10b、釜液出口閥19、循環(huán)泵3b、流量計20、循環(huán)液進口 13的管路后通過噴頭14進入水解反應爸16形成另一個循環(huán)系統(tǒng)。本用于四氯化硅水解的裝置的水解步驟為:打開水進料閥1,使水進入循環(huán)泵3a,通過循環(huán)泵3a和流量計4打到射流噴射器8,四氯化硅通過四氯化硅進料閥5和四氯化硅進口 7進入射流噴射器8中,與水進行混合,通過料液進口 9進入水解反應釜16內(nèi)的液面以下;打開釜液出口閥2,使釜液從釜液出口 IOa流入循環(huán)泵3a,從而進入第一個循環(huán)系統(tǒng)。同時打開釜液出口閥19和循環(huán)泵3b,水解反應釜16內(nèi)釜液從釜液出口 IOb流到循環(huán)泵3b、流量計20和噴嘴14,從而使釜液進入水解反應釜16形成另一個循環(huán)系統(tǒng)。反應過程中產(chǎn)生的汽化的四氯化硅通過填料15得到吸收,氯化氫通過排氣閥11的氯化氫出口 12排出;反應產(chǎn)生的二氧化硅從水解反應釜16的排液閥18和排液口 17排出。具體使用案例1:將45L水通過循環(huán)泵3a打到的循環(huán)系統(tǒng),四氯化硅4.3L通過射流噴射器進入水解反應釜,反應溫度為40°C,反應時間為lh,產(chǎn)品二氧化硅的收率為80%。具體使用案例2:將45L水通過循環(huán)泵3a打到循環(huán)系統(tǒng),四氯化硅4.3L通過射流噴射器進入水解反應釜,反應溫度為45°C,反應時間為1.5h,產(chǎn)品二氧化硅的收率為85%。具體使用案例3:將45L水通過循環(huán)泵3a打到循環(huán)系統(tǒng),四氯化硅4.3L通過射流噴射器進入水解反應釜 ,反應溫度為50°C,反應時間為2h,產(chǎn)品二氧化硅的收率為75%。權(quán)利要求1.一種用于四氯化硅水解的裝置,其特征在于: 該裝置包括射流噴射器(8 )、水解反應釜(16 )和兩個循環(huán)系統(tǒng);所述射流噴射器(8 )與水解反應釜(16)的料液進口(9)連通,在射流噴射器(8)上設(shè)有開口(6)和四氯化硅進口(7); 所述水解反應釜(16)的一側(cè)下部設(shè)有釜液出口(IOa);所述的釜液出口(IOa)通過管路和循環(huán)泵(3a)與射流噴射器(8)的開口(6)連通,形成第一個循環(huán)系統(tǒng);所述循環(huán)泵(3a)連通進本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護點】
    一種用于四氯化硅水解的裝置,其特征在于:該裝置包括射流噴射器(8)、水解反應釜(16)和兩個循環(huán)系統(tǒng);所述射流噴射器(8)與水解反應釜(16)的料液進口(9)連通,在射流噴射器(8)上設(shè)有開口(6)和四氯化硅進口(7);所述水解反應釜(16)的一側(cè)下部設(shè)有釜液出口(10a);所述的釜液出口(10a)通過管路和循環(huán)泵(3a)與射流噴射器(8)的開口(6)連通,形成第一個循環(huán)系統(tǒng);所述循環(huán)泵(3a)連通進水管路;所述水解反應釜(16)的另一側(cè)下部設(shè)有釜液出口(10b),水解反應釜(16)設(shè)有循環(huán)液進口(13);所述的釜液出口(10b)通過管路和循環(huán)泵(3b)與水解反應釜(16)的循環(huán)液進口(13)連通,形成另一個循環(huán)系統(tǒng)。

    【技術(shù)特征摘要】

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:劉玉敏郝叢蔣子超武朋濤花秀艷張向京胡永其
    申請(專利權(quán))人:河北科技大學
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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