一種透射式全穆勒矩陣光譜橢偏儀及其測量方法技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種透射式全穆勒矩陣光譜橢偏儀及其測量方法，方法是將起偏臂產(chǎn)生的調(diào)制光線投射到待測樣件表面，檢偏臂將待測樣件反射(或透射)的光線解調(diào)并接收，通過對測量光譜進(jìn)行諧波分析，計(jì)算獲得待測樣件的全穆勒矩陣信息，并通過非線性回歸，庫匹配等算法擬合提取待測樣件的光學(xué)常數(shù)，特征形貌尺寸等信息。橢偏儀包括起偏臂(包括光源，透鏡組，起偏器和伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)的補(bǔ)償器)，待測樣件和檢偏臂(包括伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)的補(bǔ)償器，檢偏器，透鏡組和光譜儀)。本發(fā)明專利技術(shù)可實(shí)現(xiàn)各種信息光電子功能材料和器件，以及納米制造中各種納米結(jié)構(gòu)的在線測量，具有非破壞性，快速和低成本的特點(diǎn)。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種透射式全穆勒矩陣光譜橢偏儀，其特征在于，它包括起偏臂和檢偏臂；所述起偏臂包括光源、第一透鏡組、起偏器和第一旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器；光源、第一透鏡組、起偏器和第一旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器依次位于同一光路上，且光源位于第一透鏡組的焦點(diǎn)上；所述檢偏臂包括檢偏器、第二透鏡組、光譜儀和第二旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器；第二旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器、檢偏器和第二透鏡組和光譜儀依次位于同一光路上，且光譜儀位于第二消色差透鏡組的焦點(diǎn)處；第一旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器和第二旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器的相位延遲量均在60°?140°范圍內(nèi)；所述起偏臂與所述檢偏臂工作時(shí)沿樣品臺(tái)的軸線方向?qū)ΨQ放置。

【技術(shù)特征摘要】

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：劉世元，李偉奇，張傳維，陳修國，
申請(專利權(quán))人：華中科技大學(xué)，
類型：發(fā)明
國別省市：