一種空氣隙標準具及其制作方法技術

本發明專利技術公開了一種空氣隙標準具及其制作方法，該標準具由第一光學基片、間隔塊和第二光學基片通過深化光膠而成，本發明專利技術采用改變間隔塊厚度的方式，使標準具原透過峰波長移動到指定波長位置；采用刻蝕去除或鍍膜增厚等方式精加工間隔塊厚度，以精密控制透過峰波長。該標準具結構簡單、加工方便，而且對透過峰波長的鎖定精度高，同時提高了標準具的溫度穩定性，有利于降低波長鎖定器的設計和制作難度。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及光學領域，尤其涉及一種適用于波長或頻率鎖定應用領域的標準具及其制作方法。
技術介紹
標準具按結構分為空氣隙標準具和固體標準具。空氣隙標準具時由前片、后片和間隔塊構成。前片和后片通過間隔塊作用形成了一個以空氣為間隙的干涉腔。固體標準具由一塊拋光好的基片構成，在基片的兩個拋光面之間形成了以材料為間隙的干涉腔。固體標準具由一塊拋光好的基片構成，在基片的兩個拋光面之間形成了以基片材料為間隙的干涉腔。標準具在通訊領域，可以作為波長鎖定器的波長濾波器件，其工作的光路原理圖如附圖說明圖1所示，由位相差

【技術保護點】
一種空氣隙標準具，包括第一光學基片、間隔塊和第二光學基片；間隔塊設置于第一光學基片和第二光學基片中間，三者光膠為一體，其特征在于：所述間隔塊厚度h由公式確定，其中j為干涉級次，λj為透過峰波長，n為空氣隙的折射率，θ′為光入射到標準具空氣隙內的折射角；間隔塊中間設有一通孔，所述第一光學基片的第二表面與所述通孔對應的區域鍍有第一部分反射膜，其大小小于通孔尺寸；所述第二光學基片的第一表面與所述通孔對應的區域鍍有第二部分反射膜，其大小小于通孔尺寸。FDA0000102889280000011.tif

【技術特征摘要】
1.一種空氣隙標準具，包括第一光學基片、間隔塊和第二光學基片；間隔塊設置于第一光學基片和第二光學基片中間，三者光膠為一體，其特征在于:所述間隔塊厚度h由公式2.按權利要求1所述的一種空氣隙標準具，其特征在于:所述第一光學基片的第二表面還鍍有第一光膠膜，第一部分反射膜鍍于第一光膠膜之上；所述第二光學基片的第一表面也鍍有與第一光膠膜一樣的第二光膠膜，第二部分反射膜鍍于第二光膠膜之上。3.按權利要求1或2所述的一種空氣隙標準具，其特征在于:所述第一光學基片的第一表面和第二光學基片的第二表面均鍍有增透膜，該兩表面均為一楔形小斜面，其楔角范圍為15' 30'。4.一種空氣隙標準具的制作方法，其特征在于，包括如下步驟:a.在間隔塊中間打一通孔，在第一光學基片的第二表面和第二光學基片的第一表面上鍍部分反射膜；b.將間隔塊與第一光學基片和第二光學基片光膠為一體，間隔塊位于中間；c.對上述初步光膠后的標準具進行腔長厚度測試，并由公式5...

【專利技術屬性】
技術研發人員：張新漢，王曉東，鄧韋偉，林磊，黃富泉，黃國玲，凌吉武，
申請(專利權)人：福州高意光學有限公司，
類型：發明
國別省市：